SK하이닉스 반도체 기술 中유출 협력사 부사장 징역 1년 6개월 확정

국가핵심기술 중국 유출 혐의

A사 부사장, 항소심서 형량 늘어

협력사 법인에 벌금 10억원 확정

[서울=뉴시스] 서울 서초구 대법원. 2025.06.12. (사진 = 뉴시스 DB) [email protected]

[서울=뉴시스] 이종희 기자 = SK하이닉스의 반도체 국가 핵심기술을 중국 경쟁업체에 유출한 혐의 등으로 재판에 넘겨진 협력사 임직원들에게 실형이 확정됐다.

대법원 1부(주심 신숙희 대법관)는 12일 오전 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 SK하이닉스 협력업체 A사 신모 부사장에게 징역 1년 6개월을 선고한 원심을 확정했다.

같은 혐의로 재판에 넘겨진 A사 연구소장과 영업그룹장은 각각 징역 1년6개월에 벌금 5000만원이, 나머지 임직원 2명은 각각 징역 1년, 징역 8개월에 집행유예 2년이 확정됐다. 법인에게는 벌금 10억원이 확정됐다.

이들은 지난 2018년 8월부터 2020년 6월까지 SK하이닉스와의 협업을 통해 알게 된 반도체 관련 국가 핵심기술 등을 중국 반도체 경쟁업체에 유출한 혐의 등으로 재판에 넘겨졌다.

유출된 기술은 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술, 반도체 세정 레시피 정보 등인 것으로 파악됐다. 이는 10나노급 D램 반도체 제조 공정의 핵심 기술이다.

또 삼성전자 계열사인 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 세정장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 받았다.

1심은 신 부사장에게 징역 1년을, A사에는 벌금 4억원을 선고했다. 나머지 임직원들은 징역 8개월~1년 6개월에 집행유예 2년과 무죄 등이 선고됐다.

1심은 "국가 핵심 기술을 해외로 유출하는 범행은 상당히 무겁고 죄질이 좋지 않다"며 "공정한 경쟁 질서를 위협하는 행위"라고 지적했다.

2심은 1심에서 무죄로 판단한 반도체 세정장비 사양정보 유출 부분을 대부분 영업비밀 및 첨단산업기술로 보고 신 부사장에게 징역 1년 6개월을, A싸에게 벌금 10억원을 선고했다. 1심에서 무죄와 집행유예를 선고받았던 일부 임직원들에게도 실형이 선고됐다.

2심 재판부는 "세메스의 중요 산업기술 및 영업비밀을 취득한 범행은 여러 가지 면에서 심각한 위해를 초래할 수 있는 중대한 범죄"라며 "관련 사건으로 확정된 공범들과의 양형과 형평성 종합하면 원심의 양형이 너무 가벼워 부당하다"고 했다.

대법원은 원심 판단에 잘못이 없다고 보고 상고를 기각했다.

대법원은 "원심의 판단에 논리와 경험의 법칙을 위반해 자유심증주의의 한계를 벗어나거나 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률에서 정한 '국가핵심기술', '첨단기술'에 관한 법리를 오해한 잘못이 없다"고 판시했다.


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