국민대 석사생, 미국화학회 학술지에 'AI 반도체 메모리' 논문 게재

'ACS Applied Electronic Materials' 7월호 표지

AI 반도체 메모리(FTJ) 성능·내구성 향상 연구

[서울=뉴시스] 미국화학회(ACS) 발행 학술지 'ACS 어플라이드 일렉트로닉 머티리얼즈(Applied Electronic Materials)' 2026년 7월호 표지. (사진=국민대 제공) 2026.08.04. [email protected] *재판매 및 DB 금지

[서울=뉴시스]박시은 인턴 기자 = 국민대학교는 일반대학원 지능형반도체및디스플레이학과 하상훈 석사과정생이 미국화학회(ACS)가 발행하는 국제 학술지에 제1저자로 논문을 게재했다고 4일 밝혔다.

하상훈 학생의 논문이 게재된 'ACS 어플라이드 일렉트로닉 머티리얼즈(Applied Electronic Materials)'는 전자재료 및 반도체 소자 분야의 연구를 다루는 국제 학술지다.

이번 연구 내용을 시각화한 이미지는 해당 호의 추가 표지(Supplementary Cover Image)로도 선정됐다. 추가 표지는 게재된 논문 가운데 연구의 핵심 내용과 학술적 가치를 표현한 이미지를 엄선해, 학술지 홈페이지와 온라인 이슈 페이지에 조명하는 형태다.

연구에는 국민대 반도체 소자 및 집적회로 연구실(S!LK)의 이윤정 교수가 교신저자로 참여했으며, 김동명·김대환·최성진·이준종 교수가 공동 연구자로 참여했다.

연구의 주제는 '차세대 비휘발성 메모리 소자인 강유전체 터널 접합(FTJ)의 성능과 내구성을 높이는 방법'이다. 이를 위해 강유전체 도메인 공학(Domain Engineering)과 계면 산소 공공(Oxygen Vacancy) 제어 기술을 동시에 적용했다.

연구팀은 산소를 머금는 특수 막(산화코발트)을 추가해 차세대 메모리 소재(HZO)의 성능을 안정시켰다. 그 결과, 전기 신호의 구별 능력과 소자 수명이 대폭 향상돼 저전력 고성능 메모리 개발의 발판을 마련했다.

특히 강유전체 내부의 도메인과 계면의 산소 공공을 동시에 제어함으로써 FTJ 소자의 동작 메커니즘을 규명하고 장기 신뢰성을 높였다. 이번 연구 성과는 향후 인공지능(AI) 반도체, 뉴로모픽 컴퓨팅, 초저전력 비휘발성 메모리 등 차세대 반도체 기술 개발에 활용될 수 있다.

한편 이번 연구는 한국연구재단 개인연구지원사업(중견연구)의 지원을 받아 수행됐으며, 연구 논문은 'ACS 어플라이드 일렉트로닉 머티리얼즈' 2026년 7월호에 게재됐다.


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