'승진탈락' 中회사에 연구원 넘기고 기술 유출 50대, 항소심도 실형

[대전=뉴시스]김도현 기자 = 승진에 탈락하자 중국 반도체 회사와 동업 약정을 맺고 관련 연구원을 포섭, 중국으로 이직시키며 기술을 유출한 50대가 항소심에서도 실형을 선고받았다.

대전고법 제1-1형사부(부장판사 박진환)는 19일 오전 10시 40분 316호 법정에서 산업 기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반, 부정 경쟁 방지 및 영업 비밀 보호에 관한 법률 위반(영업 비밀 국외 누설 등), 업무상배임, 증거은닉교시 혐의로 기소된 A(59)씨에게 1심과 같은 징역 2년 6개월을 선고했다.

다만 같은 혐의로 기소된 2명은 1심보다 늘어난 징역 1년 6개월, 징역 2년과 벌금 2000만원을 각각 선고받았다.

재판부는 "계획적 및 조직적 범죄를 여전히 일부 다투고 있으며 반도체 업계 전반에 경종을 울려 향후 유사한 범죄를 막을 필요가 있다"며 "공탁만으로는 양형에 반영할 만한 사정으로 보기 어렵고 1심이 너무 지나치게 무겁거나 가볍다고 볼 수 없다"고 설명했다.

이어 "피고인들은 영업 비밀과 국가 핵심 기술에 해당하지 않는다고 주장하지만 이러한 주장은 받아들이지 않는다"며 "나머지 주장 역시 1심에서 충분히 다퉜다고 보이며 이러한 사정을 고려했을 때 피고인 2명의 형량이 다소 가벼워 부당하다"고 판시했다.

A씨는 지난 2019년 8월부터 퇴직한 2020년 1월까지 자신이 다니던 반도체 회사의 CMP 슬러리 및 패드 관련 보안 자료를 휴대전화로 촬영해 중국에 있는 반도체 회사로 유출한 혐의다.

범행 전인 2019년 6월 A씨는 중국 소재의 한 반도체 회사와 CMP 슬러리 제조 사업 동업을 약정한 뒤 범행을 저지른 것으로 알려졌다.

특히 2018년 임원 승진에 탈락하자 범행을 저질렀으며 국내 다른 반도체 회사 2곳에 다니던 연구원 등 3명을 각각 부사장·팀장·팀원급으로 중국 반도체 회사에 이직시키기도 했다.

또 2020년 5월부터 A씨는 해당 회사에 사장급으로 이직해 근무한 것으로 파악됐다.

피고인 2명은 자신이 다니던 회사에서 CMP 슬러리 실험데이터 등 기술 자료를 활용, 중국 내 CMP 슬러리 사업계획 프레젠테이션을 만든 것으로 전해졌다.

더불어 중국 반도체 회사 직원들에게 이를 제공하거나 CMP 공정 관련 보안 자료를 업무용 휴대전화 화면에 띄운 후 다른 휴대전화로 촬영해 유출한 것으로 조사됐다.

수사가 시작되자 이 사실을 알아 챈 A씨는 과거 자신이 유출한 자료 등을 공범에게 숨겨달라고 부탁했고 공범은 증거은닉을 시도했다.

1심 재판부는 "피해 회사들이 기술 연구와 개발에 투입한 많은 노력과 비용을 헛되게 할 뿐 아니라 관련 분야의 건전한 경쟁과 거래 질서를 심각하게 저해할 수 있고 국가 산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있다"며 A씨에게 징역 2년 6개월을 선고했다.

나머지 피고인 5명에 대해서는 각각 벌금 500만원~징역 2년, 집행유예 3년을 선고했다.

1심 판결에 불복한 A씨 등 3명과 검찰은 항소를 제기했다.

CMP(Chemical Mechanical Polishing) 슬러리란 기계적 연마 역할을 하는 연마입자와 화학적 연마 역할을 하는 화학적첨가제가 혼합된 용액이다. 반도체 공정 과정에서 형성된 웨이퍼 표면의 미세한 요철을 연마하는 공정에 사용되는 연마제다.

CMP 패드의 경우 웨이퍼와 접촉한 상태에서 고속으로 회전하며 연마 기능을 수행하는 장치를 말한다.


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